Paládio do nanopowder do nanopowder de CAS 7440-05-3 Pd como o catalizador
Tamanho: 20-30nm Pureza: 99,95% Nr. CAS: 7440-05-3 ENINEC No.: 231-115-6 Aparência: pó preto Forma: esférica
Tamanho: 20-30nm Pureza: 99,95% Nr. CAS: 7440-05-3 ENINEC No.: 231-115-6 Aparência: pó preto Forma: esférica
Nós podemos fornecer produtos de tamanho diferente de siliceto de nióbio em pó de acordo com as necessidades do cliente. Tamanho: 1-3um; Pureza: 99,5%; Forma: granular Nº CAS: 12034-80-9; Nº ENINEC: 234-812-3
Partícula de Ni2Si, pureza de 99,5%, forma granular, é usado para circuito integrado microeletrônica, filme de siliceto de níquel, etc. Tamanho: 1-10um; Nº CAS: 12059-14-2; Nº ENINEC: 235-033-1
Tamanho: 5-10um; Pureza: 99,5%
Número CAS: 12039-87-1; ENINEC No.:Enquiry
Aparência: pó preto; Forma: esférica
Marca:
SAT NANOItem número.:
HP2314B-10UForma de pagamento:
TT, Paypal, WUOrigem do Produto:
ChinaCor:
black powderPorto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTempo de espera：
1-5daysOrdem minima:
100gEspecificação de Partícula VSi2 :
| Parte No. | Partícula |
Pureza (%) |
SSA (m2 / g) |
Densidade aparente (g / cm3) |
Densidade (g / cm3) |
Cristal | Cor |
| HP2314B-10U | 5-10um | 99,5 | 7 | 1,3 | 4,5 | esférico | Preto |
Nota: nós podemos fornecer produtos de tamanho diferente de partícula VSi2 de acordo com as necessidades do cliente.
Aplicação de Partícula VSi2 :
A partícula VSi2 apresenta boa resistência à oxidação e à resistência à corrosão.
É amplamente utilizado em materiais estruturais de alta temperatura e circuito de integração de escala ultra-grande.
Condições de armazenamento:
Partícula VSi2 deve ser selado e armazenado em um ambiente seco e fresco. Não deve ser exposto ao ar por um longo tempo, para evitar a aglomeração devido à umidade, afetando o desempenho de dispersão e efeito de uso, e deve evitar a pressão pesada, não entre em contato com oxidante e transporte de acordo com produtos comuns.
Tamanho: 5-10um; Pureza: 99,5% Número CAS: 12039-87-1; ENINEC No.:Enquiry Aparência: pó preto; Forma: esférica
comprar pó b4c mícron de alta condutividade térmica usado para componentes semicondutorestamanho: 50nm, 100nm, 500nm, 1-3um, 10-100um,pureza: 99% forma: cúbica, alta qualidade, baixo preço e entrega rápida. clique nele para verificar as especificações.
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Tamanho: 10 + -5nm | Purity: 99.9% | CAS NO: 13463-67-7 ENINEC NO: 215-280-1 | Tipo: ANATASE. APARÊNCIA: PÓ WHITE
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Fonte superfino de tântalo silicide pó TaSi2 de partículas utilizado para anti-oxidação do revestimento, Tamanho:100nm,>1um, 1-3um, 10-40um; Pureza de 99,5%, alta qualidade, entrega rápida, preço baixo, por favor, verifique a especificação.
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Tamanho: 30-50nm, 1-3um Pureza: 99,9% Nº CAS: 7440-48-4 ENINEC No.: 231-158-0 Aparência: pó preto Forma: Esférica
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