Paládio do nanopowder do nanopowder de CAS 7440-05-3 Pd como o catalizador
Tamanho: 20-30nm Pureza: 99,95% Nr. CAS: 7440-05-3 ENINEC No.: 231-115-6 Aparência: pó preto Forma: esférica
Tamanho: 20-30nm Pureza: 99,95% Nr. CAS: 7440-05-3 ENINEC No.: 231-115-6 Aparência: pó preto Forma: esférica
Nós podemos fornecer produtos de tamanho diferente de siliceto de nióbio em pó de acordo com as necessidades do cliente. Tamanho: 1-3um; Pureza: 99,5%; Forma: granular Nº CAS: 12034-80-9; Nº ENINEC: 234-812-3
Partícula de Ni2Si, pureza de 99,5%, forma granular, é usado para circuito integrado microeletrônica, filme de siliceto de níquel, etc. Tamanho: 1-10um; Nº CAS: 12059-14-2; Nº ENINEC: 235-033-1
Tamanho: 500nm, 1-3um
Pureza: 99,9%
Nº CAS: 12039-90-6
ENINEC No.: 234-911-1
Aparência: pó cinza
Forma: amorfo
Marca:
SAT NANOItem número.:
HP4014B-1UForma de pagamento:
TT, Paypal, WUOrigem do Produto:
ChinaCor:
black PowderPorto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTempo de espera：
1-5daysOrdem minima:
1kgEspecificação de Pó ZrSi2 :
| Parte No. | Partícula |
Pureza (%) |
SSA (m2 / g) |
Densidade aparente (g / cm3) |
Densidade (g / cm3 ) |
Cristal | Cor |
| HP4014B-500N | 500nm | 99,9 | 26,3 | 26 | 4,8 | amorfo | cinzento |
| HP4014B-1U |
1-3um | 99,9 | 10,9 | 45 | 4,8 | amorfo | branco |
O produto tem alta pureza, pequeno tamanho de partícula, distribuição uniforme, grande área superficial específica e alta atividade superficial.
Aplicação de Pó ZrSi2 :
Usado principalmente como pó de matéria-prima cerâmica fina para a produção de hélio produção de filmes semicondutores.
Condições de armazenamento:
O pó de ZrSi2 deve ser selado e armazenado em um ambiente seco e fresco. Não deve ser exposto ao ar por um longo tempo, para evitar a aglomeração devido à umidade, afetando o desempenho de dispersão e efeito de uso, e deve evitar a pressão pesada, não entre em contato com oxidante e transporte de acordo com produtos comuns.
Tamanho: 500nm, 1-3um Pureza: 99,9% Nº CAS: 12039-90-6 ENINEC No.: 234-911-1 Aparência: pó cinza Forma: amorfo
Tamanho: 500nm, 1-3um Pureza: 99,9% Nº CAS: 12039-90-6 ENINEC No.: 234-911-1 Aparência: pó cinza Forma: amorfo
Tamanho: 30-50nm, 1-3um Pureza: 99% Nº CAS: 1317-39-1 ENINEC No.: 210-270-7 Aparência: pó vermelho Forma: perto Esférica
Tamanho: 40nm, 70nm, 100nm, 1um, 5um Pureza: 99,9% N.o CAS: 241-036-9 No. ENINEC: 241-036-9 Aparência: pó preto Forma: Esférica
Comprar mícron de partículas de 5um Al pó de alumínio para a pasta de polimento, esférica tipo de Pureza de 99,9%, alta qualidade, preço baixo, entrega rápida, por favor clique nele para verificar a especificação.
Fornecimento de óxido de grafeno reduzido para condutividade elétrica e térmica, alta qualidade, alta pureza e preço baixo, entrega rápida, verifique as especificações.
Tamanho: 100nm, 0.5Um, 1-3um, 5um Pureza: 99,8%, 99% Nº CAS: 10043-11-5 ENINEC No.: 233-136-6 Aparência: pó branco Forma: hexagonal
Tamanho: 50nm, 100nm, 1-2um, 5um, Pureza: 99,9% Nº CAS: 7440-03-1 ENINEC No.: 231-143-9 Aparência: pó cinza claro Forma: Esférica
Tamanho: 0,4-0,7um, 0,85-1,12um Pureza: 99,9% Nº CAS: 12138-09-9 No. ENINEC: 235-243-3 Aparência: pó preto Forma: Esférica
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Tamanho: 50nm, 100nm, 1-3um, 5um Pureza: 99,5% Nº CAS: 24304-00-5 No. ENINEC: 246-140-8 Aparência: pó branco cinza Forma: cristal hexagonal e irregular
Fonte superfino de tântalo silicide pó TaSi2 de partículas utilizado para anti-oxidação do revestimento, Tamanho:100nm,>1um, 1-3um, 10-40um; Pureza de 99,5%, alta qualidade, entrega rápida, preço baixo, por favor, verifique a especificação.
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