Paládio do nanopowder do nanopowder de CAS 7440-05-3 Pd como o catalizador
Tamanho: 20-30nm Pureza: 99,95% Nr. CAS: 7440-05-3 ENINEC No.: 231-115-6 Aparência: pó preto Forma: esférica
Tamanho: 20-30nm Pureza: 99,95% Nr. CAS: 7440-05-3 ENINEC No.: 231-115-6 Aparência: pó preto Forma: esférica
Nós podemos fornecer produtos de tamanho diferente de siliceto de nióbio em pó de acordo com as necessidades do cliente. Tamanho: 1-3um; Pureza: 99,5%; Forma: granular Nº CAS: 12034-80-9; Nº ENINEC: 234-812-3
Partícula de Ni2Si, pureza de 99,5%, forma granular, é usado para circuito integrado microeletrônica, filme de siliceto de níquel, etc. Tamanho: 1-10um; Nº CAS: 12059-14-2; Nº ENINEC: 235-033-1
Tamanho: 500nm, 1-3um
Pureza: 99,9%
Nº CAS: 12039-90-6
ENINEC No.: 234-911-1
Aparência: pó cinza
Forma: amorfo
Marca:
SAT NANOItem número.:
HP4014B-1UForma de pagamento:
TT, Paypal, WUOrigem do Produto:
ChinaCor:
black PowderPorto de embarque:
Shenzhen, ShanghaiTempo de espera：
1-5daysOrdem minima:
1kgEspecificação de Pó ZrSi2 :
| Parte No. | Partícula |
Pureza (%) |
SSA (m2 / g) |
Densidade aparente (g / cm3) |
Densidade (g / cm3 ) |
Cristal | Cor |
| HP4014B-500N | 500nm | 99,9 | 26,3 | 26 | 4,8 | amorfo | cinzento |
| HP4014B-1U |
1-3um | 99,9 | 10,9 | 45 | 4,8 | amorfo | branco |
O produto tem alta pureza, pequeno tamanho de partícula, distribuição uniforme, grande área superficial específica e alta atividade superficial.
Aplicação de Pó ZrSi2 :
Usado principalmente como pó de matéria-prima cerâmica fina para a produção de hélio produção de filmes semicondutores.
Condições de armazenamento:
O pó de ZrSi2 deve ser selado e armazenado em um ambiente seco e fresco. Não deve ser exposto ao ar por um longo tempo, para evitar a aglomeração devido à umidade, afetando o desempenho de dispersão e efeito de uso, e deve evitar a pressão pesada, não entre em contato com oxidante e transporte de acordo com produtos comuns.
Tamanho: 500nm, 1-3um Pureza: 99,9% Nº CAS: 12039-90-6 ENINEC No.: 234-911-1 Aparência: pó cinza Forma: amorfo
Tamanho: 500nm, 1-3um Pureza: 99,9% Nº CAS: 12039-90-6 ENINEC No.: 234-911-1 Aparência: pó cinza Forma: amorfo
Tamanho: 10-20nm, 20-30nm, 100nm, 200nm, 1-3um Pureza: 99,9% Nº CAS: 14808-60-7 No. ENINEC: 231-545-4 Aparência: pó branco Forma: amorfo Forma: hidrofóbica, hidrofílica
Fonte superfino de tântalo silicide pó TaSi2 de partículas utilizado para anti-oxidação do revestimento, Tamanho:100nm,>1um, 1-3um, 10-40um; Pureza de 99,5%, alta qualidade, entrega rápida, preço baixo, por favor, verifique a especificação.
Diâmetro: 3-15nm, 30-60nm Comprimento: 15-30nm Pureza: 90-99% N.o CAS: 308068-56-6 Nº ENINEC: 231-153-3 Aparência: pó preto
Tamanho: 50nm, 80nm, 100nm, 1-3um Pureza: 99,9% Nº CAS: 7429-90-5 ENINEC No.: 231-072-3 Aparência: pó preto cinza Forma: Esférica
Tamanho: 10-30nm Pureza: 99,9% Nº CAS: 1344-28-1 ENINEC No.: 215-691-6 Aparência: pó branco Conteúdo Al2O3: 75% Cristal: Boehmite
Compre pó de nitreto de silício nano si3n4 usado como materiais refratários avançados, tamanho: 50nm, 100nm, 1-3um, 5um, pureza: 99,5%, alta pureza, baixo preço e entrega rápida, clique para verificar as especificações.
Diâmetro: 20-30nm Pureza: 99,8% Nº CAS: 14808-60-7 No. ENINEC: 231-545-4 Aparência: pó branco Forma: agulha
Adotando o sistema europeu de formação de SLM avançado, qualquer estrutura complicada pode ser formada ao mesmo tempo sem soldagem. Reduziu significativamente o tempo de entrega em 2/3.
Tamanho: 50nm, 100nm, 1um Pureza: 99,9% Forma: Esférica Nº CAS: 1306-38-3 ENINEC No.: pesquisa Aparência: pó branco
Tamanho: 20-30nm Pureza: 99,99% Nº CAS: 7440-06-4 No. ENINEC: 231-116-1 Aparência: pó preto Forma: esférica
serviço on-line
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